04-19 20:56
中芯7nm和国产光刻机怎么没了消息？

台积电和三星都已经实现5nm量产工艺，并且正在探索3nm工艺制程。在高端技术水准上达到了世界领先级别。而我国企业也在不断追赶，分别在技术和设备上传来了好消息。


技术方面，中芯国际联席CEO梁孟松曾透露，已经攻克到了7nm技术，并打算今年4月份试产。到了试产阶段，已经是非常大的突破了。相当于技术研发已经完成，只等待后续的验证，调试和完善。

另外中芯国际与荷兰ASML公司签订了12亿美元的光刻机采购条件，涉及EUV光刻机交易。通过EUV光刻机也是能够实现7nm芯片制造的，已经掌握DUV光刻机的中芯国际，或许能取得7nm试产的重大进步。

不只是芯片，还有国产28nm光刻机。据业内消息传，国产光刻机厂商上海微电子即将交付一台28nm沉浸式光刻机。达到了第四代ArF光源，并且是从90nm直接跨越到了28nm。

如果交付成功，意味着国产光刻机将迎来更广阔的未来。但令人不解的是，曾传得沸沸扬扬的中芯7nm和上海微电子28nm光刻机，为何忽然都没了消息？


原因

对国产半导体产业链来说，7nm芯片制程和28nm光刻机都是不小的突破，具有重大历史意义。其技术难度是非常高的，每一代制程的推动都需要付出巨大的努力。

目前为何没有这些方面的消息，或许有两个原因。


第一个原因是受外界市场因素影响，需要重新调整规划。

以中芯国际为例，曾被美国关注并将其列入清单。只有拿到许可的供应商才能继续供货，彼时中芯国际称10nm以下制程会有影响。

虽然后续传来了拿到许可的消息，部分美设备供应商可继续供货。但重点在于“部分”，而非所有。所以涉及到7nm的材料和设备是否能继续供应，还不得而知。


可供货的范围到底在哪只有当事企业知道。

第二个原因是发展稳定，低调做事。

经过一系列的事情以后，都开始选择低调做事。正所谓树大招风，要是过度宣扬所取得的成果，很可能就是木秀于林风必摧之了。

这个道路浅显易懂，在还没有取得彻底成功之前，没有必要把阶段性的成果公布。也许过程中发展稳定，只是考虑到不定市场环境，太过高调的话反而不是什么好事。


这些或许就是为何没有进一步传来消息的原因，至于是否还有其余因素，就不是外界能得知的了。

中国芯片正不断加速前进

国产7nm芯片和28nm光刻机都是我国芯片制造领域的重要力量，我国定下了芯片发展目标，未来四五年内，逐步将芯片自给率提升到70%。要想实现这一目标，不能过度依赖国外的技术和设备。


所以中芯国际的7nm和上海微电子的28nm都是重要保障，也是实现芯片自给率目标的关键因素。

可以知道的是，中国芯片正不断加速崛起。虽然不知道中芯国际7nm和上海微电子的28nm进展如何，是否取得重大突破。但既然摸到了这些技术领域的门槛，就说明从未停止发展脚步。


我国还有众多芯片企业，去年新增注册的芯片相关企业达到了2.28万家，今年1到2月份新增的芯片注册企业也达到了4350家。

众人拾柴火焰高，在这么多企业的集中力量下，就算再大的困难也会有突破的一天。


总结

我们都期待国产芯片可以取得更大的进步，但这不是短时间内就能完成了。就算没有消息传来也没有关系，只要最终能走到成功的这一天，付出多少都是值得的。

再多给国产芯片一些时间，心急吃不了热豆腐。只有稳扎稳打才能步步向前，并取得最终的胜利。