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中国想自力打造光刻机,ASML工程师:天方夜谭 太初之道

送交者: nowhere1[♂★★★✦娱乐人生✦★★★♂] 于 2020-09-28 20:53 已读 115 次  

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美国对华为实施出口管制,凸显中国半导体产业技术和制造设备的窘境。华为创办人任正非日前造访中国科学院,传出华为将与中国科学院合作,并能在先进的极紫外光刻(EUV)技术上有所突破。但1名任职荷兰艾斯摩尔(ASML)、且投入EUV开发的华裔工程师近日发文表示,这简直是「天方夜谭」!

这名工程师在网路发文指出:「先别提把极紫外光刻机EUV给造出来,就是把EUV给用好都是一件无比复杂的事情,台积电算是我们的客户,我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用技巧达到了某种让人钦佩的高度。」

该工程师坦言,中国若有这个钱重新在国内建立起1家像台积电一样的公司,还不如用这个钱直接收编台积电;从成本上来看,后者很可能更加便宜。台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命,或者其他危机,中国企业很难超越!

该工程师说,所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国,而是中国要单挑外国,因高性能的滤光片,对极端紫外线高反射率的镀膜,耐用的商业雷射机……没有一个是中国自己能够造出来的,没有这些基础器件,而有关国家又对中国封锁,谈造EUV光刻机就是天方夜谭!

他表示,造光刻机跟造航母不一样,航母并没有在全球的产业链裡面,而光刻机是全球产业链整合出来的产品,针对中国的技术封锁如果没有松动,需要重复做的事情太多,绝非十年二十年,靠中国单打独斗能成的;如果有人还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机,那就是绝对错误的认识。

该工程师说,如果技术不革新,中国想在EUV上后来居上几乎做不到。至于台积电,它是能够熟练使用EUV的厂商,如果中国半导体代工企业都没有EUV可用,在10年内、20年内、甚至100年内都很难超越台积电

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