半导体光刻设备几点信息
半导体设备业内人士“润泰工程老余”，透露了9月9日工信部icon发布的“首台设备推广目录2024版”中关于半导体光刻设备几点信息:①推广目录清单中的两款光刻设备，氟化氪icon和氟化氩光刻机技术水平对应ASML9月6日限售的1970i和1980i DUV水平，氟化氩在多重曝光下可以做到5。大漂亮本想试探并“打脸”东大，没想到两天后被东大反手“打脸”。②东大的DUV和EUV基本同步研发，DUV出来了，EUV也不远了，也就这两年时间。③东大分别在北、上、深三地各组建了一条纯国产半导体设备线，是纯国产，没有一台国外设备，2025年全线拉通。④国内组织了十几家顶尖的半导体设备厂商、科研机构共同研发DUV和EUV，24H不间断。
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