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工信部的公布光刻机意味着什么

送交者: 山村听雨[★★★声望勋衔13★★★] 于 2024-09-14 10:16 已读 1959 次 2赞

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荷兰阿斯麦刚宣布，对中国进行DUV光刻机新一轮出口限制，打脸就来了。

近期，在工业和信息化部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》上，能够制造7-8纳米芯片的DUV光刻机（氟化氬光刻机）赫然在列。

这就意味着，能够制造7纳米芯片的国产DUV光刻机，已进入商业应用阶段，而不是此前停留在实验室里。再加上此前“制造芯片三大核心设备”之二的国产刻蚀机和薄膜设备，已经推进至3纳米，赶上全球最高水平，这更意味着：我们能够完全使用“全国产化的设备”，制造出7纳米的先进芯片，再利用先进的堆叠技术，搞出等效5纳米芯片，完全不是问题。

美国和荷兰阿斯麦所谓的DUV出口限制，限制了个寂寞；我们能够制造7纳米的DUV光刻机，已经商业应用了；你限制出口最多能够制造出28-40纳米的DUV光刻机（TWINSCAN NXT:1970i 和1980i），有个毛用呀。

工信部在荷兰阿斯麦宣布（9月6日）对1970i 和1980i DUV光刻机进行出口限制的三天后（9月9日），官网发布国产7纳米DUV光刻机的商用消息，对美国和荷兰阿斯麦，可谓是一个暴击。

我更先进的国产设备已经有了，但考虑到已经建立的稳定商业关系，所以还在持续采购你阿斯麦的DUV光刻机；不是非你不行，而是我们希望双赢，大家都有钱赚。

如今你荷兰阿斯麦不想体面，那我们就帮你体面了：以后国产DUV光刻机，不但会在国内普及，还要到全球市场，去争夺你阿斯麦的份额。凭借中国的供应链规模优势和超高性价比，你阿斯麦顶得住吗？

更厉害的是：既然国产7纳米DUV光刻机，已经可以商用量产了，那说明EUV光刻机，已经在实验室测试了。

留给美国和阿斯麦制裁的领域，真的不多了，你们抓紧哦。

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