菊厂参与的光刻机投影物镜新专利,另辟蹊径
给力!1.降低光刻机投影物镜研发成本和制造周期。
2.提高光刻机投影物镜的像质校正能力,进而提高曝光成像质量,从而实现更小的曝光分辨率和CDU。这是2022年4月12申请的技术,2023年10月27日公布的专利。技术不断升级迭代中,这是肯定的。未来,光刻机三足鼎立的日子定会到来。
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