芯片制造对各国来说都是十分重要的，一旦掌握先进的芯片制造技术，在全球芯片产业链中都有巨大的话语权。可是要想突破芯片制造工艺并非易事，美国英特尔尚且卡在7nm，截至目前也只有台积电和三星进入到7nm量产工艺，并已计划冲刺3nm。
7nm是一个门槛，是迈向高端制程工艺的起步阶段，关于国产7nm芯片，中芯国际传来了好消息。

在大陆芯片市场上，中芯国际持有的14nm工艺技术已经达到了90%-95%良率水准，和台积电持平。但14nm不是终点，下一步就该是7nm了。在这方面，中芯国际传来了即将试产的好消息。
如果不出意外的话，可以在今年4月份展开。一般而言，芯片制程的突破会经历技术攻克、试产、流片、量产、商用等几个阶段。中芯国际已经攻克了7nm技术，只差进入试产。

此前中芯国际就与荷兰ASML厂商合作，签订了12亿美元的购买光刻机协议，虽然只涉及DUV光刻机，但凭借多重曝光技术，还是有望生产出7nm芯片的。如果试产成功，那么在10月份或许就可以风险量产7nm。
到了这个层次，中芯国际与台积电的差距会再次拉近。毕竟现在的台积电，也还在5nm量产阶段。这样的速度打破了台积电创始人张忠谋的言论。

张忠谋的言论
了解台积电的人都知道，其背后的创始人张忠谋被誉为“芯片大王”，一手创建的台积电一直是全球排名第一的芯片代工厂。拥有最多的技术，设备和人才，更有全球顶尖客户纷纷向台积电下单。
在张忠谋的带领下，改变了过去的芯片制造行业，也让各大厂商从IDM模式，走向设计路线。

让台积电成功开创出芯片代工模式，可以说张忠谋对芯片制造行业和半导体市场的意义是十分重大的。其说过的话也有很大可信度，但其中一项言论或许要被打破了。

张忠谋曾说过，大陆很难在芯片制造上超越台积电，只适合做芯片设计。国产芯片制造交给台积电就好。
虽然体现出张忠谋对台积电芯片制造技术的自信，认为大陆企业有领先的芯片设计也没问题，但如果觉得大陆的芯片制造很难超越的话，可能就比较片面了。

细看中芯国际就知道，3年前还在28nm层次，14nm的良率非常低，可是3年后，14nm良率追平台积电，甚至在7nm芯片上也要展开行动。恐怕随着未来的进一步突破，张忠谋的言论就要收回了。
国产芯片的崛起之势
国产芯片制造产业已经在不断进步，有些人只看见国外掌握光刻机，光刻胶，却不知国内也有众多领先的半导体企业。

在全产业中，庞大的中国市场早已经建立起相应的供应体系，光刻机有上海微电子、离子注入机也有中国电科，刻蚀机有中微半导体，芯片制造有中芯国际，芯片设计有华为海思。
芯片光刻胶材料的代表性企业也要晶瑞股份，上海新阳等等，这些企业在过去一段时间里，都有不同程度的突破。

事实证明，国产芯片的崛起之势已成为必然，在国家层面，也制定了提升芯片自给率的目标，为企业和人才都在加大扶持力度。未来5年，10年，相信不只是7nm，国产5nm，3nm也能传来好消息。
总结
在过去的全球半导体市场上，中国一直依赖进口。但是未来随着中国芯片自给率的进一步提升，满足自给需求，就再也无需担心被卡脖子。

诚然，这需要国产企业的不断突破，积