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成熟制程大局已定

送交者: chentom60[☆★★声望品衔11★★☆] 于 2024-09-21 6:54 已读 2396 次 9赞  

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工信部官宣DUV光刻机，从分辨率这里看，65纳米貌似比较可比的是阿斯麦icon的干式TWINSCAN XT:1460K系列。工信部推出的基本上不光是跑完测试，而是通过数年调试已经可以大规模量产的机器。
22年中微已经发布的28-65nm制程的，7nm应该还在跑线中。公布的这个是干式光刻，最低到55nm。28nm那个21年6月的样机，当年生产了4台，4条产线同时跑验证，其中两条跑的不错的结果，到目前已经生产了三十几台，跑了几万片晶圆，基本成熟了。今年国产28nm线可以全线打通，就是ICRD和菊花合作在嘉定建的那条。
工信部公示的是ArF干式光刻机，这种机器是低端芯片代工领域的主流设备。上微的ssa800前一段时间也跑线成功了，明年就能批量交付量产了，这是第一代浸润式光刻机，nxt:1950i的水平，做中芯国际的n+2工艺有点勉强，这个要等第二代浸润式光刻机量产后才能做，第二代产品nxt：2000i的水平。一切顺利的话2025-2026年量产。新凯来euv的进度跟第二代duv的时间节点差不多。
背景是美日对中国制裁的加码：
2023年，日本限制23种先进半导体设备及零部件出口。2024年9月，日本针对中国新增加5项出口管制：CMOS、扫描电子显微镜、量子计算机、生成多层GDSiconⅡ数据的程序、GAAFET技术。


贴主:chentom60于2024_09_21 6:55:54编辑
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