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新凯来引爆光刻机板块!新莱应材、国风新材、冠石科技等近10家公司涨停

送交者: tx33385[★★保洁人员★★] 于 2025-03-27 20:14 已读 1102 次  

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3月27日,光刻机板块表现活跃,新莱应材(33.0700.000.00%)(维权)(300260.SZ)午后开盘快速“20cm”涨停,国风新材(5.6900.000.00%)(000859.SZ)、凯美特气(6.9000.000.00%)(002549.SZ)、西陇科学(8.3400.000.00%)(维权)(002584.SZ)、海立股份(13.6200.000.00%)(600619.SH)、冠石科技(49.3600.000.00%)(605588.SH)、兴业股份(11.7800.000.00%)(603928.SH)、江化微(19.0600.000.00%)(603078.SH)、常青科技(21.8200.000.00%)(603125.SH)等“10cm”涨停,佳先股份(24.7100.000.00%)(430489.BJ)、芯碁微装(78.8300.000.00%)(688630.SH)等公司涨幅居前。



消息面上,3月26日,SEMICON China 2025在上海开幕。深圳新凯来工业机器有限公司(下称“新凯来”)首次公开亮相,并发布多款产品,覆盖半导体制造全流程,包括EPI“峨眉山”产品、ETCH“武夷山”产品、CVD“长白山(36.8500.000.00%)”产品、PVD“普陀山”产品、ALD“阿里山”产品等。


天眼查显示,新凯来成立于2022年6月7日,其背后股东分别为新凯来技术有限公司和深圳市均隆高新产业(58.2000.000.00%)创业投资中心(有限合伙)。

图源:天眼查

就新凯来的产品及发展情况,时代财经3月27日向新凯来方面发去了采访提纲,但截至发稿未获有效回复。


半导体产业纵横报道,新凯来自成立之初就瞄准国内半导体制造企业的高端装备需求。其从2022年开始快速构建研发团队、组织行业资源,从客户需求到系统设计,从零部件开发到整机集成,3年潜心研发。3月26日,新凯来发布的13类产品涵盖了光学检测、光学量测、PX 量测、功率检测等领域。


新凯来量检测装备产品线总裁郦舟剑在接受媒体采访时提到,“当前首要解决先进制程问题,国外工艺节点已经走的更领先,我们也会朝这个方向持续地努力,这需要时间,但我们有信心。”


国泰君安(17.5000.000.00%)分析称,美系厂商主导的刻蚀、沉积、量检测、离子注入等主要半导体设备进口或进一步受阻,倒逼国产设备加速发展。


国信证券(10.4400.000.00%)研究显示,光刻机作为所有半导体制造设备中难度最高、最难突破的一环,占晶圆生产设备总市场的24%。从UV到EUV,光刻机经历了五代发展和进化,每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。根据前瞻研究院数据,光刻机由光源、曝光和双工作台三大核心系统组成,一台EUV光刻机内含有超10万个精密零部件,全球供应商超过5000家。其中光学(19.2000.000.00%)系统是最重要的子系统之一,约占整体光刻机成本的30%。


从3月27日光刻机板块涨停个股来看,据Wind数据,新莱应材是超高洁净设备关键部件的专业供应商,产品广泛应用于食品饮料、生物医药及泛半导体行业;国风新材深度聚焦高分子功能膜材料、光电新材料、聚酰亚胺材料、绿色环保木塑新材料新能源汽车轻量化材料五大产业;冠石科技主营业务为半导体显示器件及特种胶粘材料的研发、生产和销售;江化微主营超净高纯湿电子化学品及光刻胶配套湿电子化学品


这其中,开源证券研报指出,新莱应材产品满足7nm先进制程需求,批量交付AMAT、LAM、北方华创(430.4000.000.00%)等全球半导体龙头。公司产品成熟可批量出货,国内进展顺利,后续订单有望持续落地。


国风新材在2024年年报中透露,公司聚酰亚胺薄膜材料可广泛应用于柔性显示、集成电路、芯片柔性封装、5G通信、新能源汽车、电气电子、航空航天等领域,目前已批量生产的聚酰亚胺薄膜主要产品为FCCL用聚酰亚胺黄色基膜、遮蔽用聚酰亚胺黑膜、聚酰亚胺碳基膜和芯片封装用聚酰亚胺薄膜。


冠石科技则在2024年半年报中表示,报告期内完成了光掩膜版项目,预计建成投产后,公司将成为国内技术能力先进的独立光掩膜版生产企业,提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性。


对于江化微,华鑫证券研报表示,公司在湿电子化学品领域具有较强的市场竞争力,尤其是在高端半导体和光刻胶配套试剂业务方面表现突出,并已实现G5等级产品的量产,在华虹集团、长鑫存储等高端半导体客户中形成销售,进一步巩固了在行业中的领先地位。


对于国内光刻机产业的发展,光大证券(17.3200.000.00%)研报表示,目前国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。ASML为国内光刻机最大的进口来源。上海微电子是国内光刻机头部厂商,其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面,上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大,国产光刻机仍任重道远。


截至3月27日收盘,万得光刻机概念指数上涨4.99%至3362.53点。


(文章来源:时代财经

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