谈谈新凯来的产品
今年SEMICON上大放异彩的新凯来全产品线发布让人大开眼界。薄膜沉积和刻蚀产品只能说平平无奇，前有北方华创icon和中微icon两座高山，国产化率较高，因此只能算锦上添花。功率检测和扩散外延类我接触得不多，不做评论。量测产品绝对是一把王炸，DBO量测在先进光刻中必不可少，精度比IBO要高许多。XRD和AFM在失效分析和在线检测等过程中作用巨大，这些设备此前大多由外资所把持。莫干山iconMBI空白掩模检测也是另一大亮点，这东西应该能把KLA不少人心态都干崩了！
至于网传的光刻机，我只能说关于新凯来的十传九不准。新凯来此前发布过SAQP和SAOP专利，虽然也算光刻相关，但实现方式主要依靠刻蚀和薄膜沉积。但毕竟背靠菊花，玩出什么花样都不会太意外，多期待总是不会错的。不过目前发布的东西也不是说完全和光刻机没关系，比如说MBI，承担的就是ASML Iris的功能。而IBO和DBO的套刻精度也可以通过APC在线反馈到光刻机补偿到下一个lot。
菊花在全球范围内都是少有的会在晶圆制造领域投入大量研发资源的ICT企业，新凯来只是其副产物，但就是这么个副产物也能够带来如此震撼。不管其风评如何，搞研发这是真金白银，不得不服气！
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