上海微电子推出的光刻机是什么水平
上海微电子应该是推出了SSA600/20的改进版本这个首台套设备目录中光刻机的分辨率65nm，套刻精度8nm，是干式光刻机。而SSA600/20的分辨率是90nm。这个改进版本仍然不是ASML于2008年推出的1950i，该设备分辨率是40nm，套刻精度是6nm。上海微电子研发中的SSA800则是浸没式光刻机，分辨率据说是38-41nm，套刻精度是2.5nm。
虽然指标有点落后，至少是全产业链，不会被卡脖子，只要可靠性，和批量问题解决了，技术升级换代会很快的
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宣布的时机很诡异 - 山村听雨 (849 bytes) 09/14/24
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