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ASML可能没料到，将来颠覆EUV光刻机的不是另一种EUV光刻机

送交者: 牛员外[♂☆★★★★湖边健走★★★★☆♂] 于 2021-10-22 6:47 已读 9249 次  

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，而是一种全新的半导体技术！。
果其不然，如今颠覆者已经浮出水面，这就是日本#铠侠#，而这种全新的技术就是NIL半导体制造工艺。
刚刚看到消息，铠侠已开出一种绕过EUV光刻机也能直奔5nm工艺的NIL半导体制造工艺——制造5nm芯片，竟然也可以不用EUV光刻机。日媒报导，铠侠从2017年开始与佳能、DNP合作，已研发出纳米压印微影(NIL)技术。当前，掌握到15nm的NIL量产技术，希望在NAND生产率先尝试；15nm以下技术研发，铠侠和伙伴预计2025年可以达成。
要知道，按照当前芯片制造的主流制造工艺来说，到了10nm及以下节点之后，EUV光刻机及其工艺是不可或缺的，而EUV光刻机又被ASML独家垄断：不光产量有限，售价惊人，关键是EUV光刻机，能卖给谁和不能卖给谁，ASML很不自由。相比之下，日本本身也能提供DUV光刻机。这要是铠侠基于NIL半导体制造工艺的芯片制造设备实现商业量产，这对ASML和它的EUV光刻机来说，可能不亚于一场灭顶之灾，同时也可能改写全球半导体关键产业链。
当然，即便日本将铠侠NIL工艺封闭起来发展，又或者铠侠NIL工艺最终也没能量产，但铠侠的探索，对各国绕开EUV光刻机制造10nm及以下芯片也将是极大的鼓舞。也就是说，将来，大概率会有一种绕开EUV光刻机的先进芯片制造工艺诞生，并最终投入商业化量产。
在这之前，ASML也不是稳坐钓鱼船，想怎么割韭菜就怎么割韭菜。今年前三季度，ASML多项财务纪录创出了新高度。大家本以为ASML的歌舞升平还将继续，不料ASML如今竟还主动自曝遭遇供应链原材料短缺这样的“卡脖子”问题，以致于ASML坦言今年第四季度业绩预计将会低于市场预期。

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