ASML可能没料到,将来颠覆EUV光刻机的不是另一种EUV光刻机
,而是一种全新的半导体技术!。果其不然,如今颠覆者已经浮出水面,这就是日本#铠侠#,而这种全新的技术就是NIL半导体制造工艺。刚刚看到消息,铠侠已开出一种绕过EUV光刻机也能直奔5nm工艺的NIL半导体制造工艺——制造5nm芯片,竟然也可以不用EUV光刻机。日媒报导,铠侠从2017年开始与佳能、DNP合作,已研发出纳米压印微影(NIL)技术。当前,掌握到15nm的NIL量产技术,希望在NAND生产率先尝试;15nm以下技术研发,铠侠和伙伴预计2025年可以达成。要知道,按照当前芯片制造的主流制造工艺来说,到了10nm及以下节点之后,EUV光刻机及其工艺是不可或缺的,而EUV光刻机又被ASML独家垄断:不光产量有限,售价惊人,关键是EUV光刻机,能卖给谁和不能卖给谁,ASML很不自由。相比之下,日本本身也能提供DUV光刻机。这要是铠侠基于NIL半导体制造工艺的芯片制造设备实现商业量产,这对ASML和它的EUV光刻机来说,可能不亚于一场灭顶之灾,同时也可能改写全球半导体关键产业链。当然,即便日本将铠侠NIL工艺封闭起来发展,又或者铠侠NIL工艺最终也没能量产,但铠侠的探索,对各国绕开EUV光刻机制造10nm及以下芯片也将是极大的鼓舞。也就是说,将来,大概率会有一种绕开EUV光刻机的先进芯片制造工艺诞生,并最终投入商业化量产。在这之前,ASML也不是稳坐钓鱼船,想怎么割韭菜就怎么割韭菜。今年前三季度,ASML多项财务纪录创出了新高度。大家本以为ASML的歌舞升平还将继续,不料ASML如今竟还主动自曝遭遇供应链原材料短缺这样的“卡脖子”问题,以致于ASML坦言今年第四季度业绩预计将会低于市场预期。
内容来自网友分享,若违规或者侵犯您的权益,请联系我们
所有跟帖: ( 主贴楼主有权删除不文明回复,拉黑不受欢迎的用户 )
楼主前期社区热帖:
>>>>查看更多楼主社区动态...