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中国想自力打造光刻机，ASML工程师：天方夜谭太初之道

送交者: nowhere1[♂☆★★✦娱乐人生✦★★☆♂] 于 2020-09-28 20:53

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美国对华为实施出口管制，凸显中国半导体产业技术和制造设备的窘境。华为创办人任正非日前造访中国科学院，传出华为将与中国科学院合作，并能在先进的极紫外光刻（EUV）技术上有所突破。但1名任职荷兰艾斯摩尔（ASML）、且投入EUV开发的华裔工程师近日发文表示，这简直是「天方夜谭」！

这名工程师在网路发文指出：「先别提把极紫外光刻机EUV给造出来，就是把EUV给用好都是一件无比复杂的事情，台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用技巧达到了某种让人钦佩的高度。」

该工程师坦言，中国若有这个钱重新在国内建立起1家像台积电一样的公司，还不如用这个钱直接收编台积电；从成本上来看，后者很可能更加便宜。台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危机，中国企业很难超越！

该工程师说，所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国要单挑外国，因高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业雷射机……没有一个是中国自己能够造出来的，没有这些基础器件，而有关国家又对中国封锁，谈造EUV光刻机就是天方夜谭！

他表示，造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链裡面，而光刻机是全球产业链整合出来的产品，针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非十年二十年，靠中国单打独斗能成的；如果有人还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机，那就是绝对错误的认识。

该工程师说，如果技术不革新，中国想在EUV上后来居上几乎做不到。至于台积电，它是能够熟练使用EUV的厂商，如果中国半导体代工企业都没有EUV可用，在10年内、20年内、甚至100年内都很难超越台积电

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