国产光刻机要多少年才能赶超阿斯麦？ 
 

 
光刻机导读
一.什么是光刻机？

在芯片领域有一种设备单台售价1.2亿美元，重180吨，超10万个零件，安装调试至少需要一年时间，这就是光刻机，目前一家名叫阿斯麦（ASML）的荷兰公司垄断了高端光刻机的市场，全年产能19台，世界各国需要排队购买。

二.为什么美国能阻止阿斯麦出口光刻机到中国？

提到阿斯麦就不能不提EUV
 
LLC的联盟，因为光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。换句话说一个小国家根本支撑不起来，需要举全球之力来联合开发，美国国家战略将EUV光刻机技术视为推动本国半导体产业发展的核心技术，所以组成了一个联盟，联盟中包含英特尔、摩托罗拉、AMD、IBM、美国能源部以及下属的三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。看到了没？阿斯麦是站在美国巨人的肩膀上的科技企业，阿斯麦离了美国，也肯定生产不出目前的7nm芯片。

阿斯麦在加入EUV LLC联盟的时候同意在美国建立一所工厂和一个研发中心，以此满足所有美国本土的产能需求。另外，还保证55%的零部件均从美国供应商处采购，并接受定期审查。所以为什么美国能禁止荷兰的光刻机出口中国，原因在此。

三.中国光刻机企业现状

我国光刻机最高技术也就上海微电子所生产的90nm光刻机。除此之外，目前合肥芯硕半导体公司也具备量产200nm光刻机的实力，无锡影幻半导体公司也具备200nm光刻机量产的实力。而ASML则在7nm级别。

简单来看，这些数字差距可能看起来不大，但事实上，90nm跟28nm或者是7nm是千差万别的，光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，至于28nm、14nm和7nm，甚至未来有可能出现的3nm，那难度就更大了。

上海微电子的光刻机是我国光刻机的扛鼎之作，前段时间上海微电子已经宣布成功研发出28纳米光刻机，并预计将在2021年到2022年之间量产。

从90纳米光刻技术到28纳米光刻技术，我国用了13年甚至更长的时间，而从28纳米到14纳米，再从14纳米到7纳米，每晋升一个台阶，难度都会成倍的增加。

因为光刻机的精度越高，它对关键核心零部件的要求越高比，比如对镜头的要求，对光源的要求都会大大提升。
上海微电子光刻机参数
上海微电子的股权结构
如图所示，上海微电子的大股东是上海电气集团，上海电气是属于上海国资委的，所以上海微电子的股权结构比较合理，有国家支持，不至于活不下去，又有大量的市场化股东，可以保证积极性，看好上海微电子的发展前途。

四.中国要多少年才能赶超阿斯麦？

现在我国已经推出了芯片产业扶持计划，我相信在产业政策的支持之下，在企业的努力之下，我国的光刻机以及其他芯片技术会取得突飞猛进的发展。

比如目前我国在光刻技术上面，最近两年时间已经取得了很大的突破，比如2020年7月中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所就成功研发出了一种新型5纳米超高精度激光光刻加工方法。

虽然这种光刻方法目前还处于实验室阶段，但经过技术上的改进以及科研人员的突破，我相信未来有可能会真正的应用到芯片的加工当中，到时候说不定我国在芯片制造方面还有可能实现弯道超车。

个人觉得，依靠中国人的勤劳和智慧，顶多10年，我们就可以赶超阿斯麦。