大族激光正在研发光刻机！暗流涌动的国产光刻机时代来临 
 互联网深科技 2020-08-11 17:50:48
 
根据最新消息，在6月17日时，大族激光在互动平台上回答了投资者关于目前光刻机研究进展的问题。大族激光称，目前公司所研究出的光刻机的分辨率达到了3-5微米，并且主要应用在分立元器件以及LED等方面，很有希望在今年能够小批量的生产销售。

1996年大族激光在深圳成立，是深圳的一家高新技术企业。目前大族激光在亚洲中是最大的一家工业激光加工设备生产的厂商，在世界排名中排在第三名的位置。大族激光主要的产品是工业激光设备以及智能装备解决方案。

光刻机最关键的两个部件就是镜头以及激光光源，而在这两个核心部件的研发上，因为中国进入这个领域的时间比较晚，目前正在努力追赶拥有尖端技术的荷兰和日本等一些国家。目前在光刻机技术上最为领先的是荷兰的ASML公司，只有ASML公司能够生产出5纳米以及5纳米以上的光刻机，另外值得一提的是，ASML已经能够掌握极紫外光源的技术，利用这个技术能够生产出7纳米以及5纳米的芯片。

不过这项技术并不是荷兰的ASML公司自己附加研发出来的。在刚开始研发的阶段，有很多个国家参与到研究中来，其中就包括有欧洲很多个国家以及日本韩国等。所以，ASML公司的极紫外光刻机的技术中，包含有很多个国家在专利技术在内，可以说极紫外光刻机的成功研发是聚集了全球人类的智慧。

而之前提到的大族光刻机，其实就是LED/MEMS/PowerDevices制造用光刻机一类。从产业进度来看，大族激光进入光刻机领域并不算早，但在国产替代以及大力发展半导体产业的背景下，对于国产设备的需求也会有所提升，而这也要看其光刻机设备是否具有竞争力。

具体地说，我国目前在光刻机领域技术领先的是上海微电子，上海微电子生产的光刻机能够达到90纳米。除了上海微电子之外，还有合肥的芯硕半导体公司和无锡的影幻半导体公司，目前这两家公司都能够批量生产出200纳米的光刻机。而全球领先的ASML公司则是能够生产出7纳米的光刻机。

从数字上来看，可能会感觉其实差距不是很大，不过事实上，90纳米跟7纳米差距非常大，光刻机每提升一个梯度，所要攻克的技术难度就会大幅度增加，从90纳米的技术升级到65纳米可能不会很难，但是如果想要从65纳米升级到45纳米，就是一个很难攻克的技术节点了，再从45纳米到25纳米、14纳米、7纳米等，难度就更加大了。

也正是因为技术上的问题难以攻克，所以我国在光刻机的研发上面所取得的进步一直很缓慢，而大族激光目前研发出来的激光级别才达到微米，想要达到纳米级别还有很长的路要走。