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国产28nm光刻机问世!手握3200项专利

送交者: MKE[☆★★★声望勋衔15★★★☆] 于 2020-09-15 1:13 已读 709 次 7赞  

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前言:最近的好消息真的是一个接一个,先是华为推出了全部开源的鸿蒙系统要和安卓一较高下,现在光刻机方面也迎来了好消息。近日,上海微电子集团已经证实,成功研发出了我国第一款28nm的光刻机设备,有望将在2021年年初交付使用。这一举将会缓解国产芯片被卡脖子的尴尬局面。


禁限日期越来越近,先是美光存储宣布断供华为,其后三家韩国知名的企业三星、LG和SK海力士正式宣布将按照美国要求执行对华为限售的禁令。这也就意味着,9月15日之后,华为不但无法购买三星和海力士的芯片,同时也将不能再购买LG生产的OLED屏幕面板。


这边不差钱的中国华为想买买不了,那边缺钱的韩国三巨头却想卖不敢卖,这不得不让人感慨。华为为了冲破芯片禁令带来的负面影响,在除硬件领域之外的领域都开始发力,比如华为在5G的发展上,显然美国的禁令没有起到成效,其全球市场份额仍然稳居第一。


当然,华为这边也有一定的心理准备,不但早就开始对外宣布麒麟芯片可能成为绝版,而且还将明年的手机出货目标下调到了5000万部。


幸运的是,在这样危急的时刻,国产光刻机传出了好消息,上海微电子不但成功研制出了28nm的光刻机设备,还让我国彻底摆脱了一直以来对荷兰AMSL光刻机的依赖。


提起上海微电子,可能很多人还不熟悉,但是这家国企就像一匹黑马,迅速地崛起。它在没有自己成熟科研团队和没有成熟技术经验可以借鉴的情况下,拿下了光刻技术3200多项专利。上海微电子之所以可以拿下国内市场80%的订单,是因为其掌握着先进的封装光刻机技术以及高亮度LED光刻等智能设备技术。据悉,28nm光刻机的出货量,每年可以保持在50台左右。


不久之前,上海微电子的光刻机设备还处在仅支持90nm制程工艺的阶段,现如今却突然迈入了28nm的水平,这已经不是单级跳跃式发展了,而是近乎光速在发展了。


很多人或许还不太能理解这次28nm光刻机出现的意义,虽然它和荷兰顶尖的极紫外5nm光刻机存在很大的差距。但是,28nm现在已经能够达到国内大部分芯片制程工艺的要求,而且28nm在有些设备当中还属于比较先进的工艺。比如28nm对于OLED屏幕上所需的IC驱动芯片而言,就是比较先进的工艺,通常情况下的屏幕驱动芯片的制程工艺要求是在60nm或45nm之间。那么华为最担心的无芯可用局面也就可以迎刃而解了,即使最坏的情况出现,其也有中低端芯片可以使用,这对华为而言,无疑是一个意外的惊喜。


当然,华为技术独立只是时间问题,麒麟芯片也迟早会回归华为手机。虽然现在的困境很多,但是我国一直也没有停下脚步。不久前我国还掌握了光刻机双工作台的核心技术,这也就打破了欧美光刻技术的垄断。


值得一提的是,最近中科院长春光机所经过长达7年研发出的1.5米扫描干涉场曝光系统,也将打破国外技术的封锁,这项技术不光可以应用在光刻机技术方面,还可以应用在可控核聚变,高能激光等多个领域。所有技术都是从无到有,从有到一点点发生突破的,相信总有一天我国的芯片制造业会拿出属于我们自己的骄傲答卷。

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